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渦輪分子泵應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱伯東企業(yè)（上海）有限公司
品牌
型號
所在地深圳市
廠商性質(zhì)其他
更新時間2025/3/19 12:05:04
訪問次數(shù)43

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伯東公司成立于1953 年，范圍內(nèi)有一千七百名員工。伯東企業(yè)(上海)有限公司()主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、電子零部件加工、銷售及相關(guān)服務(wù)工作，集團年營業(yè)額約為100億人民幣。伯東公司在國內(nèi)主要城市：北京、蘇州、廣州、深圳、成都及廈門設(shè)有營業(yè)據(jù)點。上海伯東真空產(chǎn)品事業(yè)部秉承為廣大中國客戶提供的真空產(chǎn)品、推動中國真空工藝發(fā)展、承擔(dān)企業(yè)社會責(zé)任為經(jīng)營理念，已累計為超過10,000家企業(yè)提供真空服務(wù)，覆蓋工業(yè)、半導(dǎo)體、鍍膜、科研和分析行業(yè)。上海伯東代理品牌包含：德國Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品、美國 KRI 離子源、美國Brooks Polycold 制冷機，美國HVA 真空閥門，美國 inTEST(Temptronic)高速溫度循環(huán)測試機，離子蝕刻機，真空鍍膜系統(tǒng)及配套真空零配件等。上海伯東作為國際真空品牌代理商，全權(quán)負(fù)責(zé)在中國地區(qū)的銷售和維修服務(wù)，99% 使用原廠進口零部件以及國外受訓(xùn)維修工程師；擁有*的拆解，維修，校正能力并提供24小時在線服務(wù)。

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渦輪分子泵應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 產(chǎn)品信息

渦輪分子泵應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD
脈沖激光沉積 Pulsed Laser Deposition, PLD, 是一種利用激光對物體進行轟擊, 然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上, 得到沉淀或者薄膜的一種手段. PLD 系統(tǒng)由多個真空腔體組成, 整個系統(tǒng)需要超高真空且不能引入任何雜質(zhì), 對環(huán)境的清潔度要求較高, 必須配備無油干泵和分子泵抽真空. 由于各個輔助腔體體積較小, 因此特別適合使用 Pfeiffer Hicube 系列分子泵組. 上海伯東普發(fā) Pfeiffer 分子泵組因其結(jié)構(gòu)緊湊體積小, 清潔無油（前級泵配備干泵) , 抽速快, 極限真空度高達(dá) 10-11mbar 等優(yōu)點廣泛應(yīng)用于此設(shè)備.

上海伯東脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例：某大學(xué)電信系脈沖激光沉積系統(tǒng)
1. 系統(tǒng)功能：主要用于 Mn 氧化物等復(fù)雜材料膜。
2. 渦輪分子泵真空度要求: 真空度< 1x10^-⁶pa
3. 樣品尺寸: 6英寸
4. 基片旋轉(zhuǎn), 加熱溫度：750℃
5. 膜生長控制模式: 鍍率 / 厚度 / 時間控制模式
Pfeiffer 渦輪分子泵
真空系統(tǒng)配置:超高真空系統(tǒng)配置:

	渦輪分子泵 HiPace 400 接口: DN 100 CF-F 極限真空: < 5X10-10 mbar 氮氣壓縮比: > 1X1011
	渦輪分子泵 HiPace 80 接口: DN 63 CF-F 極限真空: < 5X10-10 mbar 氮氣壓縮比: > 1X1011
	隔膜泵 MVP 040 口徑: G1/4” 極限真空: ≦5 mbar 抽速: 2.3 m³/h

Pfeiffer 渦輪分子泵抽速范圍 10 至 2700 L/S, 轉(zhuǎn)速 90,000 rpm, 極限真空 1E-11 mbar, 對小分子氣體具有更高的壓縮比, 實踐證明 Pfeiffer 渦輪分子泵運行時間可以達(dá)到 100,000 小時! 普發(fā)分子泵提供復(fù)合軸承分子泵和五軸全磁浮分子泵二大系列滿足不同應(yīng)用, 推薦搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 更多分子泵典型應(yīng)用 >>

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